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TFC`11全国薄膜技术学术研讨会通知
   
来源:深圳大学薄膜物理与应用研究所   发布者:tfpa   发布时间:2011-6-28 16:03:38   浏览次数:2372
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        全国薄膜技术学术研讨会是国内有关薄膜技术有影响的系列学术会议,自2003年确定每二年召开一次。“TFC`11全国薄膜技术学术研讨会”将由中国真空学会薄膜专业委员会主办,南昌航空航天大学协办。学术研讨定于2011年8月26-27日在江西南昌市举行。本次会议是一次较大规模的学术活动,会议将研讨、展示近二年来我国薄膜材料与技术的最新成就,会议还将邀请薄膜技术研究方面有较高造诣的专家到会作精彩报告。会议特向全国从事薄膜科学与技术的科技工作者、企事业单位征集论文,会议热情地欢迎有关的科研院所、大专院校、企业的人士报名参加会议。

一、征文范围

1. 当代薄膜科学与技术的展望;
2. 薄膜技术成膜机理或最新理论;
3. 薄膜产业化发展的综述;
4. 信息存储薄膜的发展;
5. 平板显示器的薄膜技术发展综述;
6. 光学薄膜制备工艺的最新进展;
7. 微电子薄膜技术的最新发展;
8. 与新能源、新材料等相关的薄膜技术;
9. 硬质薄膜技术的最新发展及应用;
10. 纳米多层薄膜研制与展望;
11. 新的功能薄膜技术最新成果与展望;
12. 大面积镀膜、规模化生产的薄膜工艺技术的最新发展;
13. PVD(物理气相沉积)和CVD(化学气相沉积)研制的新设备、新成果;
14. 薄膜性能测试与分析;
15. 其他薄膜制备的新技术、新工艺及应用;

二、征文要求:

1. 征文截止日期为2011年7月10日,请寄1000字以内的论文详细摘要小样,可直接编入论文摘要集,论文摘要及全文请采用电子邮件投稿。

2. 论文摘要格式:标题(3号黑体、标题下空一行、居中),作者、单位(5号楷体),摘要(小四号宋体),限定为一页A4复印纸上(21.0x29.7cm2),行距1.5倍,打印范围不得超出(14.5x22cm2),上边距4.7cm,下边距3cm,两边各为3.25cm,不要页码和页眉。

3. 论文应重点突出,论据充分,措词严谨,文责自负。已在其他学术会议或刊物上发表过的论文请勿投稿。

4. 录用的论文随会议正式通知发出,请自行保留底稿,一律不退。

5. 会议期间交论文全文,会议将根据论文质量推荐在《真空科学与技术学报》杂志上发表,被录用的论文经审编通过后出版一期《真空科学与技术学报》“薄膜会议”专辑。

三、会议方式:

1. 以自荐、推荐和特邀的方式,组织大会学术报告。
2. 分组交流。
3. 汇编论文摘要集,与会代表人手一册。
4. 组织相关的薄膜产业小型产品展示。

四、联系方式:
  
地址:北京大兴工业开发区前高米店盛坊路仪器仪表基地北仪创新公司 邮编:102600
联系人:陈月增       
电话/传真: 010-60250760、13621104338/010-60250760
E-mail: bychenyz@sina.combychenyz@sohu.com

诚挚和热情的欢迎您参加会议,参会代表请务必在7月10日前返回回执。

                                                     中国真空学会薄膜专业委员会

 
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