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第十八届国际真空大会
   
来源:深圳大学薄膜物理与应用研究所   发布者:tfpa   发布时间:2010-4-12 17:51:57   浏览次数:2964
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(2010年8月23 – 27日于中国北京国际会议中心召开)

 
     
     
  主办单位:国际真空科学技术和应用联合会(IUVSTA)  
  承办单位:中国真空学会(CVS)  
     
  同时召开的会议有:  
  2010纳米科学与技术国际会议(ICN+T 2010)  
  第十四届表面科学国际会议(ICSS-14)  
  第五届亚洲和澳大利亚真空和表面科学会议(VASSCAA-5)  
     
  大会主席:侯建国,中国科技大学  
  大会副主席:Lars Montelius,瑞典德隆大学
                         薛其坤,中国清华大学
                        Tatsuo Okano,日本东京大学
 
     
        这将是学术研究界和产业界专业技术人员交流与共享最新科学成果与技术开发的一次良机。届时将邀请顶尖科学工作者介绍最新的研究成果,将涉及材料、表面和纳米科学等领域。与会的代表约有2000 - 3000 名。同时还将举办国际真空展览会。  
     
  IVC18/ICN+T 2010/ICSS-14/VASSCAA-5的主要议题是:  
        表面科学  
        纳米科学  
        应用表面科学  
        薄膜科学与技术  
        电子材料  
        先进表面工程  
        等离子科学技术  
        真空科学  
        生物界面  
     
        有关注册和论文摘要递交事宜,请详见网站www.ivc18.com
 
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